文章摘要:利用2010—2019年中国A股上市公司数据,构建面板门槛模型,探讨外资在华技术创新溢出对内资企业技术进步的门槛效应。结果表明,外资在华技术创新溢出自身存在单门槛效应,对内资企业技术进步的影响呈倒U型关系;以行业外资竞争、内资模仿同构和区域知识产权保护为门槛变量发现,仅当外资竞争水平较低、内资模仿同构程度较低以及区域知识产权保护力度较大时,外资在华技术创新溢出才能促进内资企业技术进步,且其阈值效应存在行业和企业产权异质性。

文章关键词:

论文分类号:F273.1;F832.51;F832.6

文章来源：《企业研究》 网址: http://www.qyyjzz.cn/qikandaodu/2021/0929/2002.html

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